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ADEV CEMS系統(tǒng)直接測量法的優(yōu)缺點(diǎn)|埃登威自動(dòng)化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司

ADEV CEMS系統(tǒng)直接測量法的優(yōu)缺點(diǎn)

在氣態(tài)污染物CEMS（連續(xù)排放監(jiān)測系統(tǒng)）中，直接測量法是一種常用的方法。本文將重點(diǎn)關(guān)注直接測量法的優(yōu)缺點(diǎn)，以供參考。

直接測量法概述

直接測量法采用紅外或紫外光直接照射煙道中的煙氣，利用氣體的特征吸收光譜進(jìn)行分析。這種方法實(shí)時(shí)、在線，無需采樣、傳輸和預(yù)處理設(shè)備，因此受到一些行業(yè)的青睞。ADEV CEMS系統(tǒng)直接測量法的優(yōu)缺點(diǎn)

優(yōu)點(diǎn)

  1. 直接性：直接對煙氣進(jìn)行測量，避免了采樣、傳輸?shù)戎虚g環(huán)節(jié)，降低了可能帶來的誤差。
  2. 實(shí)時(shí)性：由于是實(shí)時(shí)分析，響應(yīng)時(shí)間短，可以快速反映出煙氣中污染物的變化。
  3. 非侵入性：基本上未改變煙氣的流動(dòng)狀態(tài)，樣氣的完整性很好，更接近于真實(shí)狀態(tài)。

缺點(diǎn)ADEV CEMS系統(tǒng)直接測量法的優(yōu)缺點(diǎn)

  1. 干擾因素：煙道內(nèi)的顆粒物、水滴和水霧可能會對吸光效應(yīng)產(chǎn)生干擾，從而影響分析的精度。
  2. 光學(xué)污染：雖然設(shè)備中加有吹掃裝置，但光學(xué)污染的剩余累積效應(yīng)難以完全消除，長時(shí)間運(yùn)行后可能需要進(jìn)行維護(hù)。
  3. 環(huán)境因素：分析儀表通常安裝在煙囪上，易受到雷擊、氣候條件、環(huán)境溫度變化和振動(dòng)的影響，這些都可能影響到測量的精度和可靠性。
  4. 維護(hù)難度：多數(shù)煙囪未安裝電梯設(shè)備，這使得安裝在煙囪上的分析儀表位置不便于維修，增加了后期的維護(hù)難度和成本。
  5. 低濃度測量挑戰(zhàn)：某些設(shè)備在設(shè)計(jì)時(shí)光程長度較短，這在低濃度測量時(shí)可能會使測量精度和靈敏度降低，從而影響數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。

總結(jié)ADEV CEMS系統(tǒng)直接測量法的優(yōu)缺點(diǎn)

ADEV CEMS系統(tǒng)的直接測量法有其獨(dú)特的優(yōu)勢，尤其在實(shí)時(shí)性和直接性方面表現(xiàn)突出。然而，它也存在一些固有的缺點(diǎn)，特別是在抗干擾能力、光學(xué)污染以及環(huán)境因素對測量精度的影響等方面。在選擇使用此方法時(shí)，需要綜合考慮這些因素，確保其在實(shí)際應(yīng)用中的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。

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